Welke zuiverheidsgraden biedt u aan?

CRNMC biedt hoge zuiverheid titaan materialen in drie kwaliteiten: 5N (99,999%), 6N (99,9999%) en 7N (99,99999%). Met behulp van een gepatenteerd elektrolytisch raffinageproces van gesmolten zout in combinatie met vacuüm-elektronenstraalsmelten (EBM) technologie, bereiken we grootschalige productie van titanium met ultrahoge zuiverheid. Als een van de slechts vier bedrijven wereldwijd die in staat zijn tot productie op industriële schaal van titanium met ultrahoge zuiverheid, dienen onze producten voor kritische toepassingen in halfgeleidersputterdoelen, ruimtevaart, medische apparatuur en chemische apparatuur.

Kernparameters per zuiverheidsgraad

Kernproductieproces

CRNMC heeft een gepatenteerde elektrolytische raffinageproces van gesmolten zout van de volgende generatie gecombineerd met vacuüm-elektronenbundelsmelten (EBM) voor grootschalige productie van titanium met ultrahoge zuiverheid. De gesmolten-zoutelektrolysefase verwijdert selectief overgangsmetaalverontreinigingen zoals Fe, Ni en Cr door middel van elektrochemische reductie. De smeltfase met elektronenbundels werkt onder hoog vacuüm (<10⁻³ Pa) om gasvormige onzuiverheden, waaronder O, N en H, verder te elimineren, wat titaniumstaven oplevert met uitzonderlijk lage onzuiverheidsniveaus.

Toepassingen van halfgeleiderkwaliteit

Bij de productie van halfgeleiders heeft de zuiverheid van titaniumsputterdoelen een directe invloed op de soortelijke weerstand en betrouwbaarheid van chipmetaalverbindingslagen. Titaniumdoelen van 5N-kwaliteit voldoen aan de vereisten voor procesknooppunten van 28 nm en hoger; Titaniumdoelen van 6N-kwaliteit zijn geschikt voor geavanceerde processen van 14 nm en lager, waardoor de deeltjesverontreiniging onder de 10 deeltjes per wafer (> 0,1 μm) blijft tijdens de afzetting van dunne films.

Productformulieren en maatwerk

Kwaliteitscontrolesysteem

Van de inkoop van grondstoffen tot de levering van eindproducten, CRNMC onderhoudt een uitgebreid kwaliteitsmanagementsysteem. Elke batch gaat vergezeld van ICP-MS-analyserapporten met volledige elementen die 74 metaalonzuiverheden en gaselementen omvatten. Voor producten van halfgeleiderkwaliteit worden aanvullende GDMS-diepteanalyserapporten (Glow Discharge Mass Spectrometry) geleverd, die ervoor zorgen dat de detectiegevoeligheid van onzuiverheden het ppb-niveau bereikt.

Toepassingsgevallen in de industrie

• Lucht- en ruimtevaart : Gebruikt in compressorbladen van vliegtuigmotoren en structurele componenten van de romp. Hoge specifieke sterkte vermindert effectief het gewicht van het vliegtuig en verbetert de brandstofefficiëntie.
• Medische apparaten : Kernmateriaal voor kunstgewrichten en tandheelkundige implantaten. Uitstekende biocompatibiliteit garandeert implantaatveiligheid op lange termijn.
• Chemische apparatuur : Corrosiebestendige componenten voor reactoren en leidingsystemen, die de structurele stabiliteit behouden in sterk zure en alkalische omgevingen.
• Elektronica : Sputterdoelen voor metalen verbindingslagen voor de productie van chips, die bijdragen aan verbeterde prestaties van geïntegreerde schakelingen.

Waarom kiezen voor CRNMC

Als kernleverancier in de mondiale sector van ultrahoogzuiver titanium investeert CRNMC voortdurend in technologische innovatie en neemt deel aan of leidt tal van nationale onderzoeksprojecten. We passen afmetingen, gewichten en zuiverheidsspecificaties aan volgens de eisen van de klant en bieden diensten over de hele keten, van grondstoffen tot afgewerkte componenten. Ons professionele team levert uitgebreide technische ondersteuning op het gebied van productontwerp, productie en after-salesonderhoud.