Titanium doelwit

Titaniumdoelen zijn belangrijke grondstoffen die worden gebruikt bij het sputterproces van fysieke dampafzetting (PVD). Hoogenergetische deeltjes bombarderen hun oppervlakken, sputteren titaniumatomen of ionen en vormen een zeer zuivere, hoogwaardige titanium- of titaniumverbindingsfilm op het substraat.

▸Kernfuncties en technische specificaties:
1. Ultrahoge zuiverheid: Deze doelen zijn verkrijgbaar in verschillende zuiverheidsniveaus, van 99,99% (4N) tot 99,9999% (6N), en voldoen aan de strenge onzuiverheidseisen van verschillende toepassingen en zorgen voor uitstekende geleidbaarheid, corrosieweerstand en biocompatibiliteit.
2. Aanpasbare maat en gewicht: Volledig op maat gemaakte productie wordt ondersteund. De maximale afmetingen en het maximale gewicht kunnen worden ontworpen en vervaardigd om te voldoen aan de specifieke apparatuurkamers, procesvereisten en sputterkracht van de klant, waardoor maximale procesflexibiliteit wordt geboden.
3. Professionele verpakking: Deze hoogwaardige, uiterst nauwkeurige doelen zijn veilig verpakt in houten kisten of pallets en worden beschermd tegen schade, vervuiling en vervorming tijdens transport en opslag, waardoor ze voldoen aan de industriële verzendnormen.

▸Kerntoepassingsgebieden:
1. LCD-schermen (Liquid Crystal Displays): Wordt gebruikt voor het aanbrengen van elektroden (zoals gate-, source/drain) of barrièrelagen in dunne-filmtransistor (TFT)-arrays, wat cruciaal is voor de weergave van prestaties en opbrengst.
2. Medische hulpmiddelen en implantaten: Gebruikt voor het aanbrengen van dunne films van zeer zuiver titanium of titaniumnitride op de oppervlakken van medische apparaten zoals kunstmatige gewrichten, botschroeven, tandheelkundige implantaten en cardiovasculaire stents, waardoor de biocompatibiliteit, slijtvastheid, corrosieweerstand en osseo-integratie van de producten aanzienlijk worden verbeterd.